Lagen aus Graphen versprechen aufgrund ihrer hervorragenden Eigenschaften u. a. in Transparenz, Barrierewirkung und Leitfähigkeit große Fortschritte und Effizienzsteigerungen in Solaranwendungen, Energiespeichern oder smarten Glasanwendungen. Den Durchbruch des vielversprechenden Materials verhindert bisher noch der Mangel an skalierbaren Abscheideverfahren mit gleichbleibend hoher Schichtqualität bei kosteneffizienten Durchsätzen. Am Fraunhofer-Institut für Elektronenstrahl- und Plasmatechnik FEP wurde im Rahmen des geförderten EU-Projektes NewSkin (FKZ 862100) ein innovatives PECVD-Verfahren entwickelt, das die Abscheidung von Graphen bei hohen Prozessgeschwindigkeiten ermöglicht und höhere Fertigungsdurchsätze sowie eine breitere Substratauswahl bei geringeren Prozesstemperaturen bietet. Auf der Manufacturing World Tokyo stellen die Forschenden das Verfahren vom 19. – 21. Juni 2024 am Stand Nr. E 53-11 in Tokio, Japan, vor.
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