Motivation
Die Anlage atmoFlex 1250 ermöglicht dem Fraunhofer FEP eine geschlossene Prozesskette zur Entwicklung und Pilotproduktion von Mehrfachschichtsystemen aus Lack- und Vakuumschichten unter produktionsnahen Bedingungen. In der atmoFlex 1250 können optische und dekorative Funktionsschichten, Kratzschutzschichten und durch Prägeprozesse strukturierte Schichten aufgebracht werden.
Um der Verwendung von vorbeschichteten Materialien Rechnung zu tragen, wurde die atmoFlex 1250 mit oberflächenoptimierten Walzen ausgestattet, die darüber hinaus einen großen Durchmesser im Vergleich zu sonst üblichen Walzen aufweist. Dadurch können insbesondere vakuumbeschichtete Substrate sehr belastungsarm prozessiert werden.
Parameter der Anlage
Beschichtungsbreite | 1200 mm |
Substratbreite | 1250 mm |
Substratdicke | 10 ... 300 µm |
max. Außendurchmesser |
500 mm |
Bahngeschwindigkeit | 1 ... 150 m/min |
Elektronenstrahlenergie | 90 ... 150 keV |
Prozessmodule |
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