VERSA

Vakuumbeschichtungsanlage mit Hochleistungselektronenstrahlausrüstung (300 kW) zur plasmaaktivierten Bedampfung unter aufskalierbaren Bedingungen

Typische Substrate

• Beschichtung von Platten aus Metall, Kunststoff, Glas oder Keramik mit einer maximalen Abmessung von 120 mm × 200 mm
• Beschichtung von dreidimensionalen Bauteilen

Aufgabenspektrum

• Technologieentwicklung, insbesondere neuer Plasmaprozesse bei der Hochratebedampfung und Substratvorbehandlung
• Entwicklung neuer PVD-Schichtsysteme
• Grundlegende Untersuchungen zur plasmaaktivierten Elektronenstrahlbedampfung
• Musterbeschichtungen