Batchanlage zur Beschichtung von 3D - Substraten
Versuchsanlage im Produktionsmaßstab mit hoher Flexibilität, ausgestattet mit
- zwei Dualmagnetronsystemen mit 50 kW-Pulsspannungsversorgungen,
- einer Hohlkatodenquelle zur zusätzlichen Plasmaerzeugung,
- einer Pulsspannungsquelle für die Plasma(vor-)behandlung,
- einer Einrichtung zur Substratheizung bis 700°C,
- 1-, 2- oder 3-facher Substratrotation,
- Einrichtungen zur Prozeßregelung, Meßwerterfassung und Plasmadiagnostik
Typische Substrate
- Beschichtung von Substraten dreidimensionaler Geometrie in typischen Abmessungen von 10 × 10 × 10 mm3 bis maximal 500 × 500 × 500 mm3
Aufgabenspektrum
- Schicht-, Technologie- und Verfahrensentwicklung
- Machbarkeitsstudien
- Musterbeschichtung
- Kleinserienbeschichtung
- Erprobung technologischer Komponenten