Laboranlage zur Elektronenstrahlbedampfung
Vakuumbeschichtungsanlage mit Hochleistungselektronenstrahlausrüstung (100 kW) zur Bedampfung und zum Umschmelzen unter aufskalierbaren Bedingungen
Typische Substrate
- Beschichtung von Platten aus Metall, Kunststoff, Glas oder Keramik mit einer maximalen Abmessung von 100 × 200 mm
- Beschichtung von dreidimensionalen Bauteilen
Aufgabenspektrum
- Machbarkeitsstudien
- Technologieentwicklung, insbesondere neuer Plasmaprozesse bei der Hochratebedampfung und Substratvorbehandlung
- Entwicklung neuer PVD-Schichtsysteme
- Grundlegende Untersuchungen zur Elektronenstrahlverdampfung
- Test von Schlüsselkomponenten unter industrienahen Bedingungen